德國蔡司高層表示，中國預計需要約15年時間才能研發出EUV設備。（路透資料照）
〔財經頻道／綜合報導〕全球半導體產業關鍵供應商德國蔡司（Zeiss）的一名高層表示，中國在尖端晶片製造工具的研發方面，落後了大約15年。
《彭博》報導，光學大廠蔡司半導體部門負責人羅蒙德（Frank Rohmund）表示，北京預計需要約15年時間才能研發出EUV（極紫外光）製程技術曝光機，這是一種「合理的假設」。並稱，中國的進展難以量化。
晶片製程是美國阻止中國取得頂尖AI晶片的關鍵目標，因為美中兩大經濟體正在競相開發尖端模型。美方已禁止蔡司股東艾司摩爾（ASML）向中國出口最先進的設備，而北京正向國內半導體產業投入巨資，盼能實現自給自足。
蔡司是艾司摩爾EUV設備所用光學元件的獨家供應商，而ASML是世界上唯一生產這類設備的製造商。EUV設備對於生產輝達AI加速器中使用的最先進晶片而言相當重要。
在羅蒙德做出這項預測之前，瑞銀分析師團隊本週撰文指出，中國距離自主研發EUV技術，可能還要至少10年的時間。
中國是ASML上一代DUV（深紫外光）製程技術曝光機的主要市場之一，不過，美國先前也要求ASML對幾款較先進的DUV實施出口管制。羅蒙德認為，任何將出口管制範圍擴大到傳統DUV設備的行動，都將對企業不利，甚至可能加速中國的創新。
外媒日前報導稱，中國在浸潤式DUV設備方面取得了長足進展，知情人士表示，一家位於上海的公司正在生產這類設備。對此，羅蒙德表示，北京數十年來一直在研發這類技術，因此這項消息並不令人意外，現在要看看這些工具的實際能力如何。羅蒙德補充，目前西方仍遙遙領先。
蔡司的零件被用於生產全球約80％的晶片，2017年，ASML以10億歐元（約新台幣370億元）的價格，收購了這家公司半導體部門的少數股權。
